SKIN1004 - MADAGASCAR CENTELLA HYALU-CICA SILKY-FIT SUN STICK
SKIN1004 - MADAGASCAR CENTELLA HYALU-CICA SILKY-FIT SUN STICK
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Features
Features
- Hydratation ciblée
- Contrôle de l'excès de sébum
- Format pratique pour les retouches
How to use
How to use
Appliquer directement sur les zones du visage nécessitant une hydratation ou un contrôle du sébum. Peut être utilisé avant ou après le maquillage.
Ingredients
Ingredients
Methyl Methacrylate Crosspolymer, Synthetic Wax, Coco-Caprylate/Caprate, Cetyl Ethylhexanoate, Butylene Glycol Dicaprylate/Dicaprate, Dibutyl Adipate, Butyloctyl Salicylate, Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane Crosspolymer, Silica, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Isopropyl Palmitate, Ethylhexyl Triazone, Tocopheryl Acetate, Dicaprylyl Carbonate, Diethylhexyl 2,6-Naphthalate, Vinyl Dimethicone, Polysilicone-15, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Ozokerite, Bisabolol, Polyglyceryl-4 Diisostearate/Polyhydroxystearate/Sebacate, Glyceryl Caprylate, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Melia Azadirachta Leaf Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Coccinia Indica Fruit Extract, Solanum Melongena (Eggplant) Fruit Extract, Aloe Barbadensis Flower Extract, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil, Corallina Officinalis Extract, Ocimum Sanctum Leaf Extract, Curcuma Longa (Turmeric) Root Extract, Tocopherol, Water, Sodium Hyaluronate(1ppm), Hydrolyzed Hyaluronic Acid(1ppm), Agave Tequilana Leaf Extract, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Glycerin, Hyaluronic Acid(0.01ppm), Centella Asiatica Extract(0.01ppm), Diospyros Kaki Leaf Extract, Vitis Vinifera (Grape) Fruit Extract, Carthamus Tinctorius (Safflower) Flower Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Coffea Arabica (Coffee) Seed Extract, Castanea Crenata (Chestnut) Shell Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Zanthoxylum Piperitum Fruit Extract
Le stick Madagascar Centella Hyalu Cica Silky Fit de Skin1004 est un soin pratique et multifonction qui aide à apaiser, hydrater et matifier la peau en une seule application. Formulé avec de la centella asiatica et de l'acide hyaluronique, il est idéal pour les retouches en journée, surtout pour contrôler l'excès de sébum.
Ingrédients clés :
Centella asiatica : Apaise et hydrate
Acide hyaluronique : Retient l'hydratation
Silice : Contrôle l'excès de sébum





